Fils d'Ariane

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Martin Mickan

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Post-Doctorant

GREMI, Groupe de Recherches sur l'Energétique des Milieux Ionisés
UMR7344, CNRS/Université d'Orléans
14 rue d'Issoudun, BP 6744
45067 Orléans Cedex 2, France



02 38 41 71 36

Axe MFPL


Centres d'intérêt / Activité scientifique

  • Croissance des couches minces fonctionnelles (semi-conducteurs, diélectriques, …) par PVD
  • Étude des propriétés optiques, électriques et structurales des couches minces
  • Étude du lien entres les paramètres de procède d’élaboration et les propriétés des couches minces


Compétences

  • Pulvérisation cathodique magnétron (réactive) pour le dépôt des couches minces (DC, RF, HiPIMS)
  • Dépôt de nanoparticules par pulvérisation par cathode creuse
  • Dépôt électrochimique
  • Caractérisation optique : Spectrophotométrie UV-visible-NIR, photoluminescence
  • Caractérisation électrique : Résistivité, effet Hall
  • Caractérisation structurale : Diffraction de rayons X (mode θ/2θ, incidence rasante, φ-scan), microscopie électronique à balayage (SEM), spectroscopie Raman


Parcours / Biographie


2018-

POST-DOC
Optimisation de la tenue au vieillissement de cellules électrochimiques à oxydes solides pour l’électrolyse haute température
GREMI, Orléans, France



2013-2017

DOCTORAT
Deposition of Al-doped ZnO films by high power impulse magnetron sputtering
Erasmus Mundus PhD programme “DocMASE”
Institut Jean Lamour, Nancy, France
IFM, Linköping University, Sweden



2011-2013

MASTER OF SCIENCE
Erasmus Mundus Master programme “Functionalized advanced materials and engineering”
Master thesis: Growth of arrays of ZnO nanorods on transparent conducting substrates for photovoltaic devices
PHELMA, Grenoble INP, France
Université catholique de Louvain, Louvain-la-neuve, Belgium


2008-2011

BACHELOR OF SCIENCE
Materials science
Bachelor thesis: Critical process parameters in reactive sputtering of thin VOx films
University of Augsburg, Germany


Mes 5 publications principales

  1. Effect of substrate temperature on the deposition of Al-doped ZnO thin films using high power impulse magnetron sputtering
    M. Mickan, U. Helmersson, D. Horwat
    Surface and Coatings Technology 347, 245 (2018)
  2. Restoring the Properties of Transparent Al-Doped ZnO Thin Film Electrodes Exposed to Ambient Air
    M. Mickan, M. Stoffel, H. Rinnert, U. Helmersson, D. Horwat
    The Journal of Physical Chemistry C 121, 14426 (2017)
  3. New strategies for the synthesis of ZnO and Al-doped ZnO films by reactive magnetron sputtering at room temperature
    D. Horwat, M. Mickan, W. Chamorro
    physica status solidi (c) 13, 951 (2016)
  4. Room temperature deposition of homogeneous, highly transparent and conductive Al-doped ZnO films by reactive high power impulse magnetron sputtering
    M. Mickan, U. Helmersson, H. Rinnert, J. Ghanbaja, D. Muller, D. Horwat
    Solar Energy Materials and Solar Cells 157, 742 (2016)
  5. Self-seeded electrochemical growth of ZnO nanorods using textured glass/Al-doped ZnO substrates
    V.-A. Antohe, M. Mickan, F. Henry, R. Delamare, L. Gence, L. Piraux
    Applied Surface Science 313, 607 (2014)


Publications au GREMI (depuis 2018)

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