Université d'Orléans

Dépôt par pulvérisation magnétron

PulP

L’enceinte de PULvérisation Plasma PULP est un équipement permettant de déposer une grande variété de couches minces par pulvérisation magnétron sur différents types de substrat.

  • Enceinte HV dont le vide limite est proche de 5.10-6 mbar,
  • 3 magnétrons non balancés 4 pouces alimentés par 3 générateurs DC (Pinnacle AE),
  • Cibles de pulvérisation : W, Fe, Ti, Al, Zr, etc.,
  • Porte substrat en rotation, polarisable et autorisant des substrats de grande dimension (150 x 150 mm max),
  • 2 lignes de gaz : argon et oxygène.

Savoir-faire : Co-pulvérisation de trois métaux