Université d'Orléans

Rémi Dussart

Fiche Perso

 

Professeur 1ère Classe

Section n° 63

 

GREMI, Groupe de Recherches sur l'Energétique des Milieux Ionisés

UMR7344, CNRS/Université d'Orléans

14 rue d'Issoudun, BP 6744

45067 Orléans Cedex 2, France

 

Courriel : remi.dussart[remplacer par @]univ-orleans.fr

Téléphone : +33 2 38 49 48 72

 

 

Thèmes

Thème I.2. Nanotechnologies

Thème II.3 Micro-Plasma, Plasma Médecine et Diagnostics X

Thème Transversal : Diagnostics des plasmas et des interfaces - Fonctionnalisation de surface -Modélisation

 

 

Centres d'intérêt

 

- Microplasmas : microdécharges intégrées sur silicium, dispositifs MHCD, mécanismes de claquage.

- Micro- Nanotechnologies, gravure plasma

- Diagnostics plasmas (spectroscopie, sondes, spectrométrie de masse, imagerie, fluxmétrie)

 

Compétences

 

Gravure plasma

            Cryogravure du silicium

            Cryogravure de matériaux low-k

            Gravure profonde du nitrure de gallium

            Gravure profonde du titane

            Diagnostics plasma (spectrométrie de masse, sondes de Langmuir)

            Caractérisation de matériaux (profilométrie, MEB)

Micronanotechnologies

            Lithographies optique et électronique

            Dépôts par PECVD, magnétron et électrolytique. Oxydation thermique.

            Préparation des surfaces (nettoyage, fonctionnalisation)

Microplasmas

            Conception et réalisation de microréacteurs plasmas

            Caractérisation optique et électrique des microdécharges.

            Diagnostics spectroscopiques (FTIR, OES)

Echanges d’énergie plasmas-surfaces

Diagnostics par Fluxmétrie

 

Enseignements

 

Etats de la matière (TD en PeiP à Polytech)

Electromagnétisme (TD en PeiP à Polytech)

Introduction à la relativité restreinte et à la mécanique quantique (Cours et TD en PeiP à Polytech)

Spectroscopie optique (UFR Collegium sciences et techniques, Master I Energie et Matériaux)

Micro et Nano Technologies (Cours, TD, TP en 4A à Polytech)

Sources et procédés plasmas (Cours, TD, TP en 5A à Polytech)

 

Responsabilités

Directeur de la spécialité Ecotechnologies Electroniques et Optiques de Polytech Orleans

Responsable de l'Axe II : Développement de sources plasmas pour de nouvelles applications du GREMI

Responsable au GREMI du programme de recherche Tours 2015

 

Divers

Encadrement de 3 doctorants

Collaborations avec L.J. Overzet de l’Université du Texas à Dallas et avec V. Schulz von-der Gathen de l’Université de Bochum en Allemagne

Contrats de collaboration avec les entreprises STMicroelectronics, Tokyo Electron et IMEC

 

Parcours/Bio

 

FORMATION

 

1991                         Baccalauréat série C

 

1992-93                    D.E.U.G. de Sciences et Structure de la matière option physique préparé à l'Université des Sciences et Techniques de Lille (USTL)

 

1994-95                    Licence et Maîtrise de Physique à l’USTL

 

1996                         DEA de Physique des Plasmas préparé à l’université Pierre & Marie Curie (Paris VI) option plasmas froids

 

2000                         Doctorat de troisième cycle de l’université Paris XI Orsay, spécialité : Physique des plasmas

 

2008                         Habilitation à Diriger des Recherches de l’université d'Orléans

 

PARCOURS PROFESSIONNEL

 

Août 93                 Laboratoire de Dynamique Moléculaire et Photonique. Université de Lille (USTL)

                                 Stage. Inscription de réseaux de Bragg dans des fibres optiques

 

Avril 95 et Juil 96           Physikalisches Institut. Université de Erlangen (Allemagne)

                                 Stage (4 mois en 95 +1 mois en 96). Etude de l’effet Z-Pinch pour le laser X

 

Avril-juin 96       Laboratoire de physique des gaz et des plasmas. Université d’Orsay

                                 Stage de DEA. Etude des décharges de surface sur matériaux isolants.

 

Juil. 96                   Physikalisches Institut. Université de Erlangen (Allemagne)

Etude du laser X créé à partir d’une décharge impulsionnelle dans l’Argon

 

Août 96-août 97  Groupe de Recherches sur l’Energétique des Milieux Ionisés (GREMI). Université d’Orléans

Service militaire. Scientifique du contingent. Décharges capillaires pour le laser X.

 

Sept. 97- Nov 00  GREMI. Université d’Orléans, et Center for Quantum Electronics (CQE) de l’Université du Texas à Dallas, (USA).

Thèse de Doctorat. Caractérisation d’un plasma de carbone fortement ionisé créé par décharge capillaire ablative en vue de la production de sources X cohérentes - laser X - et incohérentes.

 

Sept.00-sept. 01   Attaché Temporaire d’Enseignement et de Recherche à l’ESPEO de l’Université d’Orléans

                                                                                                                                   

Sept. 2001-Aout 13 Maître de conférences à l’Université d’Orléans

                                 Ecole d’ingénieur ESPEO devenue Polytech’Orléans.

                                                                                                                                   

Sept. 07- Aout 08  Demi-délégation au CNRS – Laboratoire GREMI

 

Sept. 13-                 Professeur de l’Université d’Orléans

                                 Polytech Orléans

 

 

Curriculum Vitae

 

Mes 5 publications principales

 

Passivation mechanisms in cryogenic SF6/O2 etching process

 R. Dussart, M. Boufnichel, G. Marcos, P. Lefaucheux, A. Basillais, R. Benoit, T. Tillocher, X. Mellhaoui, H. Estrade-Szwarckopf and P. Ranson

J. Micromech. Microeng., 14, 190–196 (2004)

 

Silicon columnar microstructures induced by an SF6/O2 plasma

R. Dussart, X. Mellhaoui, T. Tillocher, P. Lefaucheux, M. Volatier, C. Socquet-Clerc, P. Brault  and P. Ranson

J. Phys. D., 38, p. 3395-3402 (2005)

 

Direct measurements of the energy flux due to chemical reactions at the surface of a silicon sample interacting with a SF6 plasma

R. Dussart, A. L. Thomann, L. E. Pichon, L. Bedra, N. Semmar, P. Lefaucheux, J. Mathias, and Y. Tessier

Appl. Phys. Lett., 93, 131502 (2008)

 

Integrated micro-plasmas in silicon operating in helium

R. Dussart, L. J. Overzet, P. Lefaucheux, T. Dufour, M. Kulsreshath, M.A. Mandra, T. Tillocher, O. Aubry, S. Dozias, P. Ranson, J.B. Lee, and M. Goeckner

Eur. Phys. J. D, 60, 601-608 (2010)

 

Study of DC micro-discharge arrays made in silicon using CMOS compatible technology

M.K. Kulsreshath, L. Schwaederle, L.J. Overzet, P. Lefaucheux, J. Ladroue, T. Tillocher, O. Aubry, M. Woytasik, G. Schelcher, R. Dussart

J. Phys. D: Appl. Phys., 45, 285202 (2012)

 

 

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