" Soutenance de l’Habilitation à Diriger des Recherches de Thomas TILLOCHER. | Université d'Orléans

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Soutenance de l’Habilitation à Diriger des Recherches de Thomas TILLOCHER.

13/12/2018 - 14:00 - 13/12/2018 - 18:00

URL: http://www.univ-orleans.fr/actus/soutenances

Nom du contact: Etudes Doctorales

Courriel du contact: etudes.doctorales@univ-orleans.fr

Lieu: GREMI - grande salle de réunion - Polytech’Orléans - 14 rue d’Issoudun - campus UNIVERSITÉ

Discipline : Physique

Résumé :

Mes travaux de recherche sont consacrés à la cryogravure, la gravure profonde par plasma, et la réduction des défauts de profils et/ou de l’endommagement des matériaux. L’interaction entre ces trois thématiques a donné lieu à plusieurs sujets de recherches, menés dans le cadre de projets collaboratifs et financés. Le premier sujet est la cryogravure du silicium, une activité historique au GREMI. L’objectif consiste à graver des structures à fort rapport d’aspect, avec des dimensions critiques décroissantes, pour des applications en microélectronique de puissance, tout en s’intéressant aux mécanismes de passivation et de formation des défauts. Depuis quelques années, la gravure cryogénique est étudiée dans le cas des matériaux low-k poreux, très utilisés pour les interconnections en back-end. Ces matériaux ont la particularité d’être très vulnérables au plasma et plusieurs procédés cryogéniques ont été développés afin de les graver sans endommagement. La gravure profonde sans défaut ou endommagement a été étudiée pour des matériaux comme le GaN et le titane en chimie chlorée et à température ambiante. Le premier cas répond à une problématique en électronique de puissance : le GaN doit être gravé sur une épaisseur importante et cela conduit à de nombreux défauts de surface qui dégradent les propriétés électriques du matériau. Des conditions de gravure ont donc été recherchées afin d’adresser cette difficulté. Le second cas est associé à un projet visant à poser les bases d’une filière MEMS en titane. Les travaux sont orientés sur la recherche d’une chimie plasma permettant la gravure profonde du titane (300 μm), et sur la compréhension des mécanismes mis en jeu.