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Rémi Dussart

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Professeur 1ère classe
Section CNU 63

GREMI, Groupe de Recherches sur l'Energétique des Milieux Ionisés
UMR7344, CNRS/Université d'Orléans
14 rue d'Issoudun, BP 6744
45067 Orléans Cedex 2, France



02 38 49 48 72

Axe PEVS
Axe MFPL


Centres d'intérêt / Activité scientifique

  • Microplasmas : microdécharges intégrées sur silicium, dispositifs MHCD, mécanismes de claquage.
  • Micro- Nanotechnologies, gravure plasma
  • Diagnostics plasmas (spectroscopie, sondes, spectrométrie de masse, imagerie, fluxmétrie)


Compétences

  • Gravure plasma
    • Cryogravure du silicium
    • Cryogravure de matériaux low-k
    • Gravure profonde du nitrure de gallium
    • Gravure profonde du titane
    • Diagnostics plasma (spectrométrie de masse, sondes de Langmuir)
    • Caractérisation de matériaux (profilométrie, MEB)
  • Micronanotechnologies
    • Lithographies optique et électronique
    • Dépôts par PECVD, magnétron et électrolytique. Oxydation thermique.
    • Préparation des surfaces (nettoyage, fonctionnalisation)
  • Microplasmas
    • Conception et réalisation de microréacteurs plasmas
    • Caractérisation optique et électrique des microdécharges.
    • Diagnostics spectroscopiques (FTIR, OES)
  • Echanges d’énergie plasmas-surfaces
    • Diagnostics par Fluxmétrie


Enseignements

  • Etats de la matière (TD en PeiP à Polytech)
  • Electromagnétisme (TD en PeiP à Polytech)
  • Introduction à la relativité restreinte et à la mécanique quantique (Cours et TD en PeiP à Polytech)
  • Spectroscopie optique (UFR Collegium sciences et techniques, Master I Energie et Matériaux)
  • Micro et Nano Technologies (Cours, TD, TP en 4A à Polytech)
  • Sources et procédés plasmas (Cours, TD, TP en 5A à Polytech)


Responsabilités

  • Directeur de la spécialité Ecotechnologies Electroniques et Optiques de Polytech Orleans
  • Responsable au GREMI du programme de recherche Tours 2015


Divers

  • Encadrement de 3 doctorants
  • Collaborations avec L.J. Overzet de l’Université du Texas à Dallas et avec V. Schulz von-der Gathen de l’Université de Bochum en Allemagne
  • Contrats de collaboration avec les entreprises STMicroelectronics, Tokyo Electron et IMEC


Parcours / Biographie

FORMATION

1991                         Baccalauréat série C

1992-93                    D.E.U.G. de Sciences et Structure de la matière option physique préparé à l'Université des Sciences et Techniques de Lille (USTL)

1994-95                    Licence et Maîtrise de Physique à l’USTL

1996                         DEA de Physique des Plasmas préparé à l’université Pierre & Marie Curie (Paris VI) option plasmas froids

2000                         Doctorat de troisième cycle de l’université Paris XI Orsay, spécialité : Physique des plasmas

2008                         Habilitation à Diriger des Recherches de l’université d'Orléans

PARCOURS PROFESSIONNEL

Août 93                 Laboratoire de Dynamique Moléculaire et Photonique. Université de Lille (USTL)
                            Stage. Inscription de réseaux de Bragg dans des fibres optiques

Avril 95 et Juil 96   Physikalisches Institut. Université de Erlangen (Allemagne)
                            Stage (4 mois en 95 +1 mois en 96). Etude de l’effet Z-Pinch pour le laser X

Avril-juin 96       Laboratoire de physique des gaz et des plasmas. Université d’Orsay
                       Stage de DEA. Etude des décharges de surface sur matériaux isolants.

Juil. 96             Physikalisches Institut. Université de Erlangen (Allemagne)
                       Etude du laser X créé à partir d’une décharge impulsionnelle dans l’Argon

Août 96-août 97  Groupe de Recherches sur l’Energétique des Milieux Ionisés (GREMI). Université d’Orléans

Service militaire. Scientifique du contingent. Décharges capillaires pour le laser X.

Sept. 97- Nov 00  GREMI. Université d’Orléans, et Center for Quantum Electronics (CQE) de l’Université du Texas à Dallas, (USA).
Thèse de Doctorat. Caractérisation d’un plasma de carbone fortement ionisé créé par décharge capillaire ablative en vue de la production de sources X cohérentes - laser X - et incohérentes.

Sept.00-sept. 01   Attaché Temporaire d’Enseignement et de Recherche à l’ESPEO de l’Université d’Orléans                 

Sept. 2001-Aout 13 Maître de conférences à l’Université d’Orléans
                                 Ecole d’ingénieur ESPEO devenue Polytech’Orléans.

Sept. 07- Aout 08  Demi-délégation au CNRS – Laboratoire GREMI

Sept. 13-                 Professeur de l’Université d’Orléans
                              Polytech Orléans

Mes 5 publications principales

  1. Passivation mechanisms in cryogenic SF6/O2 etching process
    R. Dussart, M. Boufnichel, G. Marcos, P. Lefaucheux, A. Basillais, R. Benoit, T. Tillocher, X. Mellhaoui, H. Estrade-Szwarckopf and P. Ranson
    J. Micromech. Microeng., 14, 190–196 (2004)
     
  2. Silicon columnar microstructures induced by an SF6/O2 plasma
    R. Dussart, X. Mellhaoui, T. Tillocher, P. Lefaucheux, M. Volatier, C. Socquet-Clerc, P. Brault  and P. Ranson
    J. Phys. D., 38, p. 3395-3402 (2005)
     
  3. Direct measurements of the energy flux due to chemical reactions at the surface of a silicon sample interacting with a SF6 plasma
    R. Dussart, A. L. Thomann, L. E. Pichon, L. Bedra, N. Semmar, P. Lefaucheux, J. Mathias, and Y. Tessier
    Appl. Phys. Lett., 93, 131502 (2008)
     
  4. Integrated micro-plasmas in silicon operating in helium
    R. Dussart, L. J. Overzet, P. Lefaucheux, T. Dufour, M. Kulsreshath, M.A. Mandra, T. Tillocher, O. Aubry, S. Dozias, P. Ranson, J.B. Lee, and M. Goeckner
    Eur. Phys. J. D, 60, 601-608 (2010)
     
  5. Study of DC micro-discharge arrays made in silicon using CMOS compatible technology
    M.K. Kulsreshath, L. Schwaederle, L.J. Overzet, P. Lefaucheux, J. Ladroue, T. Tillocher, O. Aubry, M. Woytasik, G. Schelcher, R. Dussart
    J. Phys. D: Appl. Phys., 45, 285202 (2012)

 

Publications au GREMI (depuis 2006)

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