Centres d'intérêt / Activité scientifique
- Gravure de couches atomique (ALE) du Nitrure de gallium par plasma pour la conception des transistors HEMT
Compétences
- Gravure de couches atomiques par plasma
- Salle blanche
- Caractérisation matériaux : Microscope Electronique à Balayage, Microscope à force atomique, Spectrométrie, Profilométrie.
- Photolithographie, dépôts PECVD
Enseignements
- Travaux pratiques en salle blanche
Parcours / Biographie
2019
DOCTORAT
Procédé de gravure de couches atomiques de GaN et AlGaN pour la conception de diodes et de transistors HEMT
GREMI (Orléans)
03-08/2019
STAGE DE RECHERCHE
Développement et interfaçage électronique de capteurs opto/plasmoniques pour la détection de micropolluants « Recuit laser et caractérisation des couches de NPs de Al:ZnO »
GREMI (Orléans)
01-02/2019
PROJET EXPERIMENTAL
Nano-objets: étudier en temps réel la mobilité des particules sur une surface par la technique GISAXS
ICMN (Orléans)
2018-2019
MASTER 2
Physique Fondamentale et Applications spécialité Matière et Rayonnements
Université d'Orléans
Publications au GREMI (depuis 2019)
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