PulP
L’enceinte de PULvérisation Plasma PULP est un équipement permettant de déposer une grande variété de couches minces par pulvérisation magnétron sur différents types de substrat.
- Enceinte HV dont le vide limite est proche de 5.10-6 mbar
- 3 magnétrons non balancés 4 pouces alimentés par 3 générateurs DC (Pinnacle AE)
- Cibles de pulvérisation : W, Fe, Ti, Al, Zr, etc.
- Porte substrat en rotation, polarisable et autorisant des substrats de grande dimension (150 x 150 mm max)
- 2 lignes de gaz : argon et oxygène
